100 nm period grating by high-index ...
Type de document :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...)
DOI :
URL permanente :
Titre :
100 nm period grating by high-index phase-mask immersion lithography
Auteur(s) :
Bourgin, Y. [Auteur]
Jourlin, Y. [Auteur]
Parriaux, O. [Auteur]
Talneau, A. [Auteur]
Tonchev, S. [Auteur]
Veillas, C. [Auteur]
Karvinen, P. [Auteur]
Passilly, N. [Auteur]
Zain, A.R.M. [Auteur]
De La Rue, R.M. [Auteur]
Van Erps, J. [Auteur]
Troadec, D. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Jourlin, Y. [Auteur]
Parriaux, O. [Auteur]
Talneau, A. [Auteur]
Tonchev, S. [Auteur]
Veillas, C. [Auteur]
Karvinen, P. [Auteur]
Passilly, N. [Auteur]
Zain, A.R.M. [Auteur]
De La Rue, R.M. [Auteur]
Van Erps, J. [Auteur]
Troadec, D. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Éditeur :
Optical Society of America - OSA Publishing
Date de publication :
2010
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Vulgarisation :
Non
Source :
Date de dépôt :
2021-07-27T18:15:37Z
Fichiers
- https://doi.org/10.1364/oe.18.010557
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