Electron beam nanolithography in AZnLOF 2020
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
Titre :
Electron beam nanolithography in AZnLOF 2020
Auteur(s) :
Herth, E. [Auteur]
Tilmant, Pascal [Auteur]
Faucher, Marc [Auteur]
François, M. [Auteur]
Boyaval, Christophe [Auteur]
Vaurette, Francois [Auteur]
Deblock, Y. [Auteur]
Legrand, Bernard [Auteur]
Buchaillot, Lionel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Tilmant, Pascal [Auteur]
Faucher, Marc [Auteur]
François, M. [Auteur]
Boyaval, Christophe [Auteur]
Vaurette, Francois [Auteur]
Deblock, Y. [Auteur]
Legrand, Bernard [Auteur]
Buchaillot, Lionel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Titre de la revue :
MICROELECTRONIC ENGINEERING
Pagination :
2057-2060
Éditeur :
Elsevier
Date de publication :
2010
ISSN :
0167-9317
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :
Fichiers
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