Ultrathin InAlN/AlN barrier HEMT with high ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Titre :
Ultrathin InAlN/AlN barrier HEMT with high performance in normally off operation
Auteur(s) :
Ostermaier, C. [Auteur]
Pozzovivo, G. [Auteur]
Carlin, J.F. [Auteur]
Basnar, B. [Auteur]
Schrenk, W. [Auteur]
Douvry, Y. [Auteur]
Gaquiere, Christophe [Auteur]
De Jaeger, Jean-Claude [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Cico, K. [Auteur]
Frohlich, K. [Auteur]
Gonschorek, M. [Auteur]
Grandjean, N. [Auteur]
Strasser, G. [Auteur]
Pogany, D. [Auteur]
Kuzmik, J. [Auteur]
Pozzovivo, G. [Auteur]
Carlin, J.F. [Auteur]
Basnar, B. [Auteur]
Schrenk, W. [Auteur]
Douvry, Y. [Auteur]
Gaquiere, Christophe [Auteur]

De Jaeger, Jean-Claude [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Cico, K. [Auteur]
Frohlich, K. [Auteur]
Gonschorek, M. [Auteur]
Grandjean, N. [Auteur]
Strasser, G. [Auteur]
Pogany, D. [Auteur]
Kuzmik, J. [Auteur]
Titre de la revue :
IEEE Electron Device Letters
Pagination :
1030-1032
Éditeur :
Institute of Electrical and Electronics Engineers
Date de publication :
2009
ISSN :
0741-3106
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :