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Comparison of intrinsic residual stress ...
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Type de document :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...)
DOI :
10.1016/j.scriptamat.2008.11.014
URL permanente :
http://hdl.handle.net/20.500.12210/50320
Titre :
Comparison of intrinsic residual stress models in metallic thin films
Auteur(s) :
Guisbiers, G. [Auteur]
Wautelet, M. [Auteur]
Buchaillot, L. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Éditeur :
Elsevier
Date de publication :
2009
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Vulgarisation :
Non
Collections :
  • Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520
Source :
Harvested from HAL
Date de dépôt :
2021-07-27T18:58:39Z
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