Allylamine Plasma polymer: A 3D functional matrix
Type de document :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...): Communication dans un congrès avec actes
Titre :
Allylamine Plasma polymer: A 3D functional matrix
Auteur(s) :
Abbas, Abdennour [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Laboratoire de Génie des Procédés d'Interactions Fluides Réactifs-Matériaux - EA 3571 [GéPIFRéM]
Vivien, Celine [Auteur]
Laboratoire de Génie des Procédés d'Interactions Fluides Réactifs-Matériaux - EA 3571 [GéPIFRéM]
Bocquet, Bertrand [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Guillochon, Didier [Auteur]
Procédés Biologiques, Génie Enzymatique et Microbien - EA1026 [ProBioGEM]
Supiot, Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Laboratoire de Génie des Procédés d'Interactions Fluides Réactifs-Matériaux - EA 3571 [GéPIFRéM]
Vivien, Celine [Auteur]
Laboratoire de Génie des Procédés d'Interactions Fluides Réactifs-Matériaux - EA 3571 [GéPIFRéM]
Bocquet, Bertrand [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Guillochon, Didier [Auteur]
Procédés Biologiques, Génie Enzymatique et Microbien - EA1026 [ProBioGEM]
Supiot, Philippe [Auteur]
Titre de la manifestation scientifique :
European Material Research Society Conference
Ville :
Strasbourg
Pays :
France
Date de début de la manifestation scientifique :
2009-06-08
Mot(s)-clé(s) en anglais :
plasma polymer
allylamine
primary amines
surface functionnalization
thin films
rfGD
plasma polymerization
film thickness
allylamine
primary amines
surface functionnalization
thin films
rfGD
plasma polymerization
film thickness
Discipline(s) HAL :
Physique [physics]/Matière Condensée [cond-mat]/Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]
Sciences de l'ingénieur [physics]/Génie des procédés
Sciences de l'ingénieur [physics]/Plasmas
Sciences de l'ingénieur [physics]/Génie des procédés
Sciences de l'ingénieur [physics]/Plasmas
Résumé en anglais : [en]
Plasma deposited allylamine films were prepared in a radio-frequency glow discharge plasma reactor using a continuous-wave mode at 200±20 Pa work pressure, 75 W plasma power and a high growth rate (26 nm/min). These layers ...
Lire la suite >Plasma deposited allylamine films were prepared in a radio-frequency glow discharge plasma reactor using a continuous-wave mode at 200±20 Pa work pressure, 75 W plasma power and a high growth rate (26 nm/min). These layers have been found to present high primary amine content. Nevertheless, it is important to clarify the contribution of both the surface and the bulk structure on the measured primary amine concentration. In other words, how does the analyzed film thickness affect the values obtained for the amine concentration?Lire moins >
Lire la suite >Plasma deposited allylamine films were prepared in a radio-frequency glow discharge plasma reactor using a continuous-wave mode at 200±20 Pa work pressure, 75 W plasma power and a high growth rate (26 nm/min). These layers have been found to present high primary amine content. Nevertheless, it is important to clarify the contribution of both the surface and the bulk structure on the measured primary amine concentration. In other words, how does the analyzed film thickness affect the values obtained for the amine concentration?Lire moins >
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Vulgarisation :
Non
Source :