Titre :

Allylamine Plasma polymer: A 3D functional matrix

Auteur(s) :

Abbas, Abdennour [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Laboratoire de Génie des Procédés d'Interactions Fluides Réactifs-Matériaux - EA 3571 [GéPIFRéM]
Vivien, Celine [Auteur]
Laboratoire de Génie des Procédés d'Interactions Fluides Réactifs-Matériaux - EA 3571 [GéPIFRéM]
Bocquet, Bertrand [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Guillochon, Didier [Auteur]
Procédés Biologiques, Génie Enzymatique et Microbien - EA1026 [ProBioGEM]
Supiot, Philippe [Auteur]

Titre de la manifestation scientifique :

European Material Research Society Conference

Ville :

Strasbourg

Pays :

France

Date de début de la manifestation scientifique :

2009-06-08

Mot(s)-clé(s) en anglais :

plasma polymer
allylamine
primary amines
surface functionnalization
thin films
rfGD
plasma polymerization
film thickness

Discipline(s) HAL :

Physique [physics]/Matière Condensée [cond-mat]/Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]
Sciences de l'ingénieur [physics]/Génie des procédés
Sciences de l'ingénieur [physics]/Plasmas

Résumé en anglais : [en]

Plasma deposited allylamine films were prepared in a radio-frequency glow discharge plasma reactor using a continuous-wave mode at 200±20 Pa work pressure, 75 W plasma power and a high growth rate (26 nm/min). These layers ...
Lire la suite >Plasma deposited allylamine films were prepared in a radio-frequency glow discharge plasma reactor using a continuous-wave mode at 200±20 Pa work pressure, 75 W plasma power and a high growth rate (26 nm/min). These layers have been found to present high primary amine content. Nevertheless, it is important to clarify the contribution of both the surface and the bulk structure on the measured primary amine concentration. In other words, how does the analyzed film thickness affect the values obtained for the amine concentration?Lire moins >

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Non spécifiée

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL