Titre :

Plasma polymer process for microfluidic devices fabrication

Auteur(s) :

Abbas, Abdennour [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bocquet, Bertrand [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bourzgui, Nour-Eddine [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Vivien, Celine [Auteur]
Laboratoire de Génie des Procédés d'Interactions Fluides Réactifs-Matériaux - EA 3571 [GéPIFRéM]
Supiot, Philippe [Auteur]

Titre de la manifestation scientifique :

IEEE 36th International Conference on Plasma Science

Ville :

San Diego, California

Pays :

Etats-Unis d'Amérique

Date de début de la manifestation scientifique :

2009-05-31

Mot(s)-clé(s) en anglais :

Microfabrication
plasma polymerization
microfluidic microsystem
plasma polymer
microchannel
thin films
PPSL
PPMS
organisilicon
TMDS
Tetramethyldisiloxane

Discipline(s) HAL :

Physique [physics]/Matière Condensée [cond-mat]/Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Résumé en anglais : [en]

Plasma polymerization, so called Remote Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (RPECVD) has been increasingly used in microsystems field. Plasma polymers served primarily as supports for electronic sensors or carriers ...
Lire la suite >Plasma polymerization, so called Remote Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (RPECVD) has been increasingly used in microsystems field. Plasma polymers served primarily as supports for electronic sensors or carriers for biomolecules and cell attachment. This work describes the first use of plasma thin film deposition for the easy, fast and reduced cost fabrication of microfluidic channels. A new method named “plasma polymerization on a micropatterned surface” (PPMS) is presented.Lire moins >

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Internationale

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL