Titre :

Characterisation of silicon nitride thin films used as stressor liners on CMOS FETs

Auteur(s) :

Raymond, G. [Auteur]
Morin, Pascal [Auteur]
Devos, Arnaud [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Hess, D.A. [Auteur]
Braccini, M. [Auteur]
Volpi, F. [Auteur]

Titre de la manifestation scientifique :

Proceedings of the Third International Conference on Innovations on Thin Films Processing and Characterisation, ITFPC07

Ville :

Nancy

Pays :

France

Date de début de la manifestation scientifique :

2007

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Non spécifiée

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

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