Characterization of in-IC integrable ...
Type de document :
Communication dans un congrès avec actes: Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...)
URL permanente :
Titre :
Characterization of in-IC integrable in-plane nanometer scale resonators fabricated by a silicon on nothing advanced CMOS technology
Auteur(s) :
Durand, C. [Auteur]
Casset, F. [Auteur]
Legrand, Bernard [Auteur]
Faucher, M. [Auteur]
Renaux, P. [Auteur]
Mercier, D. [Auteur]
Renaud, D. [Auteur]
Dutartre, D. [Auteur]
Ollier, E. [Auteur]
Ancey, P. [Auteur]
Buchaillot, L. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Casset, F. [Auteur]
Legrand, Bernard [Auteur]
Faucher, M. [Auteur]
Renaux, P. [Auteur]
Mercier, D. [Auteur]
Renaud, D. [Auteur]
Dutartre, D. [Auteur]
Ollier, E. [Auteur]
Ancey, P. [Auteur]
Buchaillot, L. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Titre de la manifestation scientifique :
21st IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems, MEMS 2008
Pays :
Etats-Unis d'Amérique
Date de début de la manifestation scientifique :
2008
Titre de l’ouvrage :
Proceedings of the 21st IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems, MEMS 2008
Éditeur :
IEEE, Piscataway, NJ, USA
Date de publication :
2008
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Vulgarisation :
Non
Source :
Date de dépôt :
2021-07-27T19:45:10Z
Fichiers
- http://hal.archives-ouvertes.fr/docs/00/32/08/30/PDF/2008_Durand_Buchaillot_Charac_of_IN_IC_integrable_in_plane_nanometer_scale_resonators_fabricated_by_a_SON_adv_CMOS_techno.pdf
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