1.55 µm GaAs/GaNAsSb/GaAs optical waveguides ...
Type de document :
Article dans une revue scientifique: Article original
DOI :
Titre :
1.55 µm GaAs/GaNAsSb/GaAs optical waveguides grown by radio frequency nitrogen plasma-assisted molecular beam epitaxy
Auteur(s) :
Tan, Kianhuan [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Yoon, Soon [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Loke, Wan Khai [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Wicaksono, Satrio [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Xu, Zhichuan [Auteur]
Nanyang Technological University [Singapour] [NTU]
Ng, Tien Khee [Auteur]
King Abdullah University of Science and Technology [Saudi Arabia] [KAUST]
Lew, Kim Luong [Auteur]
Universiti Tunku Abdul Rahman [UTAR]
Saadsaoud, N. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Zegaoui, Malek [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Decoster, Didier [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Chazelas, Jean [Auteur]
Thales DMS France, SAS
National University of Singapore [NUS]
Yoon, Soon [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Loke, Wan Khai [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Wicaksono, Satrio [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Xu, Zhichuan [Auteur]
Nanyang Technological University [Singapour] [NTU]
Ng, Tien Khee [Auteur]
King Abdullah University of Science and Technology [Saudi Arabia] [KAUST]
Lew, Kim Luong [Auteur]
Universiti Tunku Abdul Rahman [UTAR]
Saadsaoud, N. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Zegaoui, Malek [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Decoster, Didier [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Chazelas, Jean [Auteur]
Thales DMS France, SAS
Titre de la revue :
Applied Physics Letters
Pagination :
113513-1-3
Éditeur :
American Institute of Physics
Date de publication :
2008
ISSN :
0003-6951
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Résumé en anglais : [en]
We demonstrate a 1.55 μm GaAsGaNAsSbGaAs optical waveguide grown by molecular beam epitaxy as an alternative to the AlGaAsGaAs system. The 0.4-μm -thick GaNAsSb guiding layer contains ∼3.5% of N and 9% of Sb, resulting in ...
Lire la suite >We demonstrate a 1.55 μm GaAsGaNAsSbGaAs optical waveguide grown by molecular beam epitaxy as an alternative to the AlGaAsGaAs system. The 0.4-μm -thick GaNAsSb guiding layer contains ∼3.5% of N and 9% of Sb, resulting in optical band gap of 0.88 eV. The refractive index of the GaNAsSb layer was measured from 800 to 1700 nm. The GaNAsSb layer has a refractive index value of 3.42 at 1.55 μm wavelength. The propagation loss measured using the Fabry-Ṕrot resonance method was found to be affected by nitrogen-related defect absorption.Lire moins >
Lire la suite >We demonstrate a 1.55 μm GaAsGaNAsSbGaAs optical waveguide grown by molecular beam epitaxy as an alternative to the AlGaAsGaAs system. The 0.4-μm -thick GaNAsSb guiding layer contains ∼3.5% of N and 9% of Sb, resulting in optical band gap of 0.88 eV. The refractive index of the GaNAsSb layer was measured from 800 to 1700 nm. The GaNAsSb layer has a refractive index value of 3.42 at 1.55 μm wavelength. The propagation loss measured using the Fabry-Ṕrot resonance method was found to be affected by nitrogen-related defect absorption.Lire moins >
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Vulgarisation :
Non
Source :