In-plane silicon-on-nothing nanometer-scale ...
Document type :
Article dans une revue scientifique
DOI :
Title :
In-plane silicon-on-nothing nanometer-scale resonant suspended gate MOSFET for in-IC integration perspectives
Author(s) :
Durand, C. [Auteur]
Casset, F. [Auteur]
Renaux, P. [Auteur]
Abele, N. [Auteur]
Legrand, Bernard [Auteur]
Renaud, D. [Auteur]
Ollier, E. [Auteur]
Ancey, P. [Auteur]
Ionescu, A.M. [Auteur]
Buchaillot, L. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Casset, F. [Auteur]
Renaux, P. [Auteur]
Abele, N. [Auteur]
Legrand, Bernard [Auteur]
Renaud, D. [Auteur]
Ollier, E. [Auteur]
Ancey, P. [Auteur]
Ionescu, A.M. [Auteur]
Buchaillot, L. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Journal title :
IEEE Electron Device Letters
Pages :
494-496
Publisher :
Institute of Electrical and Electronics Engineers
Publication date :
2008
ISSN :
0741-3106
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Source :
Files
- https://hal-cea.archives-ouvertes.fr/cea-00320837/file/2008_Durand_EDL_In-Plane_SON_RSG_MOSFET_for_In-IC_Integration_Persp.pdf
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