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X-ray photoelectron spectroscopy study of ...
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Document type :
Article dans une revue scientifique
DOI :
10.1063/1.2794858
Title :
X-ray photoelectron spectroscopy study of the oxidation of Se passivated Si(001)
Author(s) :
Aguirre-Tostado, F.S. [Auteur]
Layton, D. [Auteur]
Herrera-Gomez, A. [Auteur]
Wallace, R.M. [Auteur]
Zhu, J. [Auteur]
Larrieu, G. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Maldonado, E. [Auteur]
Kirk, W.P. [Auteur]
Tao, M. [Auteur]
Journal title :
Journal of Applied Physics
Pages :
084901-1-7
Publisher :
American Institute of Physics
Publication date :
2007
ISSN :
0021-8979
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Collections :
  • Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520
Source :
Harvested from HAL
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