X-ray photoelectron spectroscopy study of ...
Document type :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Title :
X-ray photoelectron spectroscopy study of the oxidation of Se passivated Si(001)
Author(s) :
Aguirre-Tostado, F.S. [Auteur]
Layton, D. [Auteur]
Herrera-Gomez, A. [Auteur]
Wallace, R.M. [Auteur]
Zhu, J. [Auteur]
Larrieu, G. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Maldonado, E. [Auteur]
Kirk, W.P. [Auteur]
Tao, M. [Auteur]
Layton, D. [Auteur]
Herrera-Gomez, A. [Auteur]
Wallace, R.M. [Auteur]
Zhu, J. [Auteur]
Larrieu, G. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Maldonado, E. [Auteur]
Kirk, W.P. [Auteur]
Tao, M. [Auteur]
Journal title :
Journal of Applied Physics
Pages :
084901-1-7
Publisher :
American Institute of Physics
Publication date :
2007
ISSN :
0021-8979
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Language :
Anglais
Popular science :
Non
Source :
Files
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