Silicon dry oxidation kinetics at low ...
Type de document :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...)
DOI :
URL permanente :
Titre :
Silicon dry oxidation kinetics at low temperature in the nanometric range: modeling and experiment
Auteur(s) :
Krzeminski, C. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Larrieu, G. [Auteur]
Penaud, J. [Auteur]
Lampin, E. [Auteur]
Dubois, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Larrieu, G. [Auteur]
Penaud, J. [Auteur]
Lampin, E. [Auteur]
Dubois, E. [Auteur]
Éditeur :
American Institute of Physics
Date de publication :
2007
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Vulgarisation :
Non
Source :
Date de dépôt :
2021-07-27T20:44:19Z
Fichiers
- http://arxiv.org/pdf/1106.3160
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