Physical properties of RF sputtered ITO ...

Document type :
Article dans une revue scientifique
Title :
Physical properties of RF sputtered ITO thin films and annealing effect
Author(s) :
Kerkache, L. [Auteur]
Layadi, A. [Auteur]
Dogheche, El Hadj [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Remiens, Denis [Auteur]
Journal title :
Journal of Physics D: Applied Physics
Pages :
184-189
Publisher :
IOP Publishing
Publication date :
2006
ISSN :
0022-3727
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Collections :
Source :
Harvested from HAL