An optimal high contrast e-beam lithography ...

Document type :
Article dans une revue scientifique
Title :
An optimal high contrast e-beam lithography process for the patterning of dense fin networks
Author(s) :
Fruleux, F. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Penaud, J. [Auteur]
Dubois, Emmanuel [Auteur]
Francois, M. [Auteur]
Muller, M. [Auteur]
Journal title :
Materials Science and Engineering: C
Pages :
893-897
Publisher :
Elsevier
Publication date :
2006
ISSN :
0928-4931
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Popular science :
Non
Collections :
Source :
Harvested from HAL