High frequency low noise potentialities ...
Document type :
Communication dans un congrès avec actes
Title :
High frequency low noise potentialities of down to 65nm technology nodes MOSFETs
Author(s) :
Dambrine, Gilles [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Gloria, Daniel [Auteur]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Scheerer, Patrick [Auteur]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Raynaud, Christine [Auteur]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Danneville, François [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
lepilliet, sl [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Siligaris, Alexandre [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Pailloncy, Guillaume [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Martineau, Baudouin [Auteur]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bouhana, Emmanuel [Auteur]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Valentin, Raphael [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Gloria, Daniel [Auteur]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Scheerer, Patrick [Auteur]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Raynaud, Christine [Auteur]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Danneville, François [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
lepilliet, sl [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Siligaris, Alexandre [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Pailloncy, Guillaume [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Martineau, Baudouin [Auteur]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bouhana, Emmanuel [Auteur]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Valentin, Raphael [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Conference title :
European Gallium Arsenide and Other Semiconductor Application Symposium, GAAS 2005
City :
Paris
Country :
France
Start date of the conference :
2005-10-03
Book title :
Proceedings of the 13th European Gallium Arsenide and other Compound Semiconductors Application Symposium, GAAS 2005
Publisher :
IEEE, Piscataway, NJ, USA
Publication date :
2005
English keyword(s) :
CMOS technology
MOSFET circuits
Millimeter wave technology
Transconductance
Calibration
Cutoff frequency
Microwave technology
Microelectronics
MOSFET circuits
Millimeter wave technology
Transconductance
Calibration
Cutoff frequency
Microwave technology
Microelectronics
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]
English abstract : [en]
65 nm n-MOSFETs show state-of-the-art cut-off frequency with f t = 210 GHz and microwave low noise and high gain properties (NF min = 0.8 dB and G ass = 17.3 dB at 12 GHz). As compared with the previous nodes, the high ...
Show more >65 nm n-MOSFETs show state-of-the-art cut-off frequency with f t = 210 GHz and microwave low noise and high gain properties (NF min = 0.8 dB and G ass = 17.3 dB at 12 GHz). As compared with the previous nodes, the high frequency properties of these MOSFETs continue to be in agreement with the downscaling trends.Show less >
Show more >65 nm n-MOSFETs show state-of-the-art cut-off frequency with f t = 210 GHz and microwave low noise and high gain properties (NF min = 0.8 dB and G ass = 17.3 dB at 12 GHz). As compared with the previous nodes, the high frequency properties of these MOSFETs continue to be in agreement with the downscaling trends.Show less >
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Internationale
Popular science :
Non
Source :