Titre :

Streaming and removal forces due to second-order sound field during megasonic cleaning of silicon wafers

Auteur(s) :

Vasseur, Jerome O. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Acoustique - IEMN [ACOUSTIQUE - IEMN]
Deymier, P. [Auteur]
Vasseur, J. [Auteur]
Génie industriel alimentaire [GENIAL]
Khelif, A. [Auteur]
Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174) [FEMTO-ST]
Djafari-Rouhani, Bahram [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Dobrzynski, Leonard [Auteur]
Raghavan, S. [Auteur]

Titre de la revue :

Journal of Applied Physics

Pagination :

6821-6835

Éditeur :

American Institute of Physics

Date de publication :

2000-12

ISSN :

0021-8979

Discipline(s) HAL :

Sciences de l'ingénieur [physics]
Physique [physics]

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Internationale

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL