Polydimethylsiloxane micro-channels ...
Type de document :
Communication dans un congrès avec actes
Titre :
Polydimethylsiloxane micro-channels application for the study of dynamic wetting of nano-etched silicon surfaces based on acoustic characterization method
Auteur(s) :
Salhab, Abbas [Auteur correspondant]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Carlier, Julien [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Campistron, Pierre [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Neyens, M. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Toubal, Malika [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Nongaillard, Bertrand [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Thomy, Vincent [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bio-Micro-Electro-Mechanical Systems - IEMN [BIOMEMS - IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
STMicroelectronics [Crolles] [ST-CROLLES]
Carlier, Julien [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Campistron, Pierre [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Neyens, M. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Toubal, Malika [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Nongaillard, Bertrand [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Thomy, Vincent [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bio-Micro-Electro-Mechanical Systems - IEMN [BIOMEMS - IEMN]
Éditeur(s) ou directeur(s) scientifique(s) :
Mertens P.W.Wostyn K.Meuris M.Heyns M.
Titre de la manifestation scientifique :
15th International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces, UCPSS 2021, Session 6 - Wet processing in narrow spaces and pattern collapse
Ville :
Virtual
Date de début de la manifestation scientifique :
2021-04-12
Éditeur :
Trans Tech Publications Ltd
Date de publication :
2021
Mot(s)-clé(s) en anglais :
Acoustics
Deep trench isolation
Micro and Nano-technology
Microelectronics
Microfluidics
Nondestructive testing
Piezoelectric transducers
Surface cleaning
Wetting
Deep trench isolation
Micro and Nano-technology
Microelectronics
Microfluidics
Nondestructive testing
Piezoelectric transducers
Surface cleaning
Wetting
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Résumé en anglais : [en]
Efficient cleaning of contaminations in the semiconductor industry is a determining factor in ensuring the good quality of the electronics products. We present here the dynamic wetting characterization of a fluid on top ...
Lire la suite >Efficient cleaning of contaminations in the semiconductor industry is a determining factor in ensuring the good quality of the electronics products. We present here the dynamic wetting characterization of a fluid on top of Deep Trench Isolation (DTI) structures using ultra-high frequency acoustic method. The dynamics of the fluid will be established using a PolyDiMethylSiloxane (PDMS) micro-channel placed on top of the structures, in order to obtain conditions as close as possible to those used in the industrial process. Wetting state of the DTI structures is determined based on the measured acoustic reflection coefficient.Lire moins >
Lire la suite >Efficient cleaning of contaminations in the semiconductor industry is a determining factor in ensuring the good quality of the electronics products. We present here the dynamic wetting characterization of a fluid on top of Deep Trench Isolation (DTI) structures using ultra-high frequency acoustic method. The dynamics of the fluid will be established using a PolyDiMethylSiloxane (PDMS) micro-channel placed on top of the structures, in order to obtain conditions as close as possible to those used in the industrial process. Wetting state of the DTI structures is determined based on the measured acoustic reflection coefficient.Lire moins >
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Internationale
Vulgarisation :
Non
Commentaire :
ORAL
Source :
Fichiers
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