Titre :

Polydimethylsiloxane micro-channels application for the study of dynamic wetting of nano-etched silicon surfaces based on acoustic characterization method

Auteur(s) :

Salhab, A. []
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Carlier, Julien [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Campistron, Pierre [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Neyens, M. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Toubal, M. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Nongaillard, Bertrand [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Thomy, V. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bio-Micro-Electro-Mechanical Systems - IEMN [BIOMEMS - IEMN]

Éditeur(s) ou directeur(s) scientifique(s) :

Mertens P.W.Wostyn K.Meuris M.Heyns M.

Titre de la manifestation scientifique :

15th International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces, UCPSS 2021, Session 6 - Wet processing in narrow spaces and pattern collapse

Ville :

Virtual

Date de début de la manifestation scientifique :

2021-04-12

Éditeur :

Trans Tech Publications Ltd

Date de publication :

2021

Mot(s)-clé(s) en anglais :

Acoustics
Deep trench isolation
Micro and Nano-technology
Microelectronics
Microfluidics
Nondestructive testing
Piezoelectric transducers
Surface cleaning
Wetting

Discipline(s) HAL :

Sciences de l'ingénieur [physics]

Résumé en anglais : [en]

Efficient cleaning of contaminations in the semiconductor industry is a determining factor in ensuring the good quality of the electronics products. We present here the dynamic wetting characterization of a fluid on top ...
Lire la suite >Efficient cleaning of contaminations in the semiconductor industry is a determining factor in ensuring the good quality of the electronics products. We present here the dynamic wetting characterization of a fluid on top of Deep Trench Isolation (DTI) structures using ultra-high frequency acoustic method. The dynamics of the fluid will be established using a PolyDiMethylSiloxane (PDMS) micro-channel placed on top of the structures, in order to obtain conditions as close as possible to those used in the industrial process. Wetting state of the DTI structures is determined based on the measured acoustic reflection coefficient.Lire moins >

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Internationale

Vulgarisation :

Non

Commentaire :

ORAL

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL

Date de dépôt :

2021-11-13T05:17:49Z