Titre :

Application de la gravure plasma à la réalisation des composants micro-nanoélectroniques à base du Si au sein de la centrale technologique de l’IEMN

Auteur(s) :

Yarekha, Dmitri [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]

Titre de la manifestation scientifique :

Colloque LN2

Ville :

Autrans

Pays :

France

Date de début de la manifestation scientifique :

2018-07

Date de publication :

2018

Mot(s)-clé(s) en anglais :

Dry etching

Discipline(s) HAL :

Sciences de l'ingénieur [physics]

Langue :

Français

Comité de lecture :

Non

Audience :

Nationale

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL