Title :

Application de la gravure plasma à la réalisation des composants micro-nanoélectroniques à base du Si au sein de la centrale technologique de l’IEMN

Author(s) :

Yarekha, Dmitri [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]

Conference title :

Colloque LN2

City :

Autrans

Country :

France

Start date of the conference :

2018-07

Publication date :

2018

English keyword(s) :

Dry etching

HAL domain(s) :

Sciences de l'ingénieur [physics]

Language :

Français

Peer reviewed article :

Non

Audience :

Nationale

Popular science :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL