Mesures hyperfréquences ‘On-Wafer’ d’impédances extrêmes : Limitations et Solutions

Abstract

Ce travail adresse la problématique de la caractérisation hyperfréquence sous pointes (‘on-wafer’) de composants présentant des impédances extrêmes hautes ou basses. Les termes d’erreurs résiduels issus de multiples calibrages vectoriels effectués sur une station de mesure sous pointes conventionnelle ont été quantifiés et propagées à la détermination d’impédances complexes. Deux configurations de mesure ont été étudiées. Plus particulièrement, le déplacement mécanique des sondes a été effectué suivant l’axe Z uniquement dans la première configuration, et suivant les axes X-Y-Z dans la deuxième. Les erreurs engendrées par les déplacements des sondes démontrent la nécessité d’améliorer la répétabilité du posé. Ainsi, les premières étapes du développement d’une station de mesure compacte, robotisée et automatisée sont présentées. Des premiers tests de mesures brutes, comparés avec les mesures issues de la station sous pointes manuelle, démontrent la pertinence et l’intérêt de la solution proposée.