Preparation of superhydrophobic silicon ...

Type de document :
Article dans une revue scientifique: Article original
DOI :
10.1021/la063345p
PMID :
17279635
URL permanente :
http://hdl.handle.net/20.500.12210/83762
Titre :
Preparation of superhydrophobic silicon oxide nanowire surfaces
Auteur(s) :
Coffinier, Yannick [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Janel, Sebastien [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Addad, Ahmed [Auteur] refId
Blossey, Ralf [Auteur] orcid refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Gengembre, Leon [Auteur]
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Payen, Edmond [Auteur] refId
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Boukherroub, Rabah [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Titre de la revue :
LANGMUIR
Numéro :
23
Pagination :
1608-1611
Date de publication :
2016-02-03
ISSN :
0743-7463
Résumé en anglais : [en]
The paper reports on the preparation of superhydrophobic amorphous silicon oxide nanowires (a-SiONWs) on silicon substrates with a contact angle greater than 150° by means of surface roughness and self-assembly. Nanowires ...
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Langue :
Anglais
Audience :
Internationale
Vulgarisation :
Non
Établissement(s) :
Université de Lille
CNRS
Centrale Lille
ENSCL
Univ. Artois
Collections :
Date de dépôt :
2023-05-30T18:22:43Z
2024-04-19T09:00:23Z
Historique des modifications
Numéro de versionLienDate de modification
220.500.12210/83762*2024-04-19T08:39:50Z
120.500.12210/83762.12023-05-30T18:22:43Z

*Version sélectionnée