Preparation of superhydrophobic silicon ...
Document type :
Article dans une revue scientifique: Article original
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Title :
Preparation of superhydrophobic silicon oxide nanowire surfaces
Author(s) :
Coffinier, Yannick [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Janel, Sebastien [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Addad, Ahmed [Auteur]
Blossey, Ralf [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Gengembre, Leon [Auteur]
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Payen, Edmond [Auteur]
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Boukherroub, Rabah [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Janel, Sebastien [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Addad, Ahmed [Auteur]

Blossey, Ralf [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Gengembre, Leon [Auteur]
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Payen, Edmond [Auteur]

Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Boukherroub, Rabah [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Journal title :
LANGMUIR
Volume number :
23
Pages :
1608-1611
Publication date :
2016-02-03
ISSN :
0743-7463
English abstract : [en]
The paper reports on the preparation of superhydrophobic amorphous silicon oxide nanowires (a-SiONWs) on silicon substrates with a contact angle greater than 150° by means of surface roughness and self-assembly. Nanowires ...
Show more >The paper reports on the preparation of superhydrophobic amorphous silicon oxide nanowires (a-SiONWs) on silicon substrates with a contact angle greater than 150° by means of surface roughness and self-assembly. Nanowires with an average mean diameter in the range 20−150 nm and 15−20 μm in length were obtained by the so-called solid−liquid−solid (SLS) technique. The porous nature and the high roughness of the resulting surfaces were confirmed by AFM imaging. The superhydrophobicity resulted from the combined effects of surface roughness and chemical modification with fluorodecyl trichlorosilane.Show less >
Show more >The paper reports on the preparation of superhydrophobic amorphous silicon oxide nanowires (a-SiONWs) on silicon substrates with a contact angle greater than 150° by means of surface roughness and self-assembly. Nanowires with an average mean diameter in the range 20−150 nm and 15−20 μm in length were obtained by the so-called solid−liquid−solid (SLS) technique. The porous nature and the high roughness of the resulting surfaces were confirmed by AFM imaging. The superhydrophobicity resulted from the combined effects of surface roughness and chemical modification with fluorodecyl trichlorosilane.Show less >
Language :
Anglais
Audience :
Internationale
Popular science :
Non
Administrative institution(s) :
Université de Lille
CNRS
Centrale Lille
ENSCL
Univ. Artois
CNRS
Centrale Lille
ENSCL
Univ. Artois
Collections :
Submission date :
2023-05-30T18:22:43Z
2024-04-19T09:00:23Z
2024-04-19T09:00:23Z