Modelling of the implantation and the ...
Type de document :
Communication dans un congrès avec actes
URL permanente :
Titre :
Modelling of the implantation and the isochronal annealing stages of 800 keV 3He implanted tungsten: formation of nanovoids in the near surface region
Auteur(s) :
De Backer, Andrée [Auteur]
Lhuillier, P.E. [Auteur]
Becquart, Charlotte [Auteur]
Unité Matériaux et Transformations - UMR 8207 [UMET]
Barthe, M.-F. [Auteur]
Lhuillier, P.E. [Auteur]
Becquart, Charlotte [Auteur]
Unité Matériaux et Transformations - UMR 8207 [UMET]
Barthe, M.-F. [Auteur]
Titre de la manifestation scientifique :
11th International Conference on Computer Simulation of Radiation Effects in Solids (COSIRES2012)
Ville :
Santa Fe
Pays :
Etats-Unis d'Amérique
Date de début de la manifestation scientifique :
2012-06
Discipline(s) HAL :
Chimie/Matériaux
Physique [physics]/Matière Condensée [cond-mat]/Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]
Physique [physics]/Matière Condensée [cond-mat]/Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]
Langue :
Anglais
Audience :
Internationale
Vulgarisation :
Non
Collections :
Équipe(s) de recherche :
Métallurgie Physique et Génie des Matériaux
Date de dépôt :
2019-05-17T09:35:57Z
2019-07-17T12:38:18Z
2019-07-17T12:38:18Z