Fast electrochemical storage process in ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Titre :
Fast electrochemical storage process in sputtered Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub> porous thin films
Auteur(s) :
Arico, Cassandra [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Ouendi, Saliha [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]
Taberna, Pierre-Louis [Auteur]
Centre interuniversitaire de recherche et d'ingénierie des matériaux [CIRIMAT]
Roussel, Pascal [Auteur]
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Simon, Patrice [Auteur]
Centre interuniversitaire de recherche et d'ingénierie des matériaux [CIRIMAT]
Lethien, Christophe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Circuits Systèmes Applications des Micro-ondes - IEMN [CSAM - IEMN]
Réseau sur le stockage électrochimique de l'énergie [RS2E]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Ouendi, Saliha [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN [CMNF - IEMN]
Taberna, Pierre-Louis [Auteur]
Centre interuniversitaire de recherche et d'ingénierie des matériaux [CIRIMAT]
Roussel, Pascal [Auteur]
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Simon, Patrice [Auteur]
Centre interuniversitaire de recherche et d'ingénierie des matériaux [CIRIMAT]
Lethien, Christophe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Circuits Systèmes Applications des Micro-ondes - IEMN [CSAM - IEMN]
Réseau sur le stockage électrochimique de l'énergie [RS2E]
Titre de la revue :
ACS Nano
Pagination :
5826-5832
Éditeur :
American Chemical Society
Date de publication :
2019-05-08
ISSN :
1936-0851
Mot(s)-clé(s) en anglais :
Nb2O5
Sputtering
Thin film
Lithium intercalation
Fast kinetics
Sputtering
Thin film
Lithium intercalation
Fast kinetics
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]/Matériaux
Sciences de l'ingénieur [physics]/Energie électrique
Sciences de l'ingénieur [physics]/Micro et nanotechnologies/Microélectronique
Sciences de l'ingénieur [physics]/Energie électrique
Sciences de l'ingénieur [physics]/Micro et nanotechnologies/Microélectronique
Résumé en anglais : [en]
The formation of a thin film electrode exhibiting high capacity and high rate capabilities is challenging in the field of miniaturized electrochemical energy storage. Here, we present an elegant strategy to tune the ...
Lire la suite >The formation of a thin film electrode exhibiting high capacity and high rate capabilities is challenging in the field of miniaturized electrochemical energy storage. Here, we present an elegant strategy to tune the morphology and the properties of sputtered porous Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub> thin films deposited on Si-based substrates via the magnetron sputtering deposition technique. Kinetic analysis of the redox reactions is studied to qualify the charge storage process, where we observe a non-diffusion-controlled mechanism within the porous niobium pentoxide thin film. To improve the surface capacity of the Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub> porous electrode, the thickness is progressively increased up to 0.94 μm, providing a surface capacity close to 60 μAh.cm<sup>-2</sup> at 1 mV.s<sup>-1</sup>. The fabrication of high energy density miniaturized power sources based on the optimized T-Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub> films could be achieved for Internet of Things applications requiring high rate capability.Lire moins >
Lire la suite >The formation of a thin film electrode exhibiting high capacity and high rate capabilities is challenging in the field of miniaturized electrochemical energy storage. Here, we present an elegant strategy to tune the morphology and the properties of sputtered porous Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub> thin films deposited on Si-based substrates via the magnetron sputtering deposition technique. Kinetic analysis of the redox reactions is studied to qualify the charge storage process, where we observe a non-diffusion-controlled mechanism within the porous niobium pentoxide thin film. To improve the surface capacity of the Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub> porous electrode, the thickness is progressively increased up to 0.94 μm, providing a surface capacity close to 60 μAh.cm<sup>-2</sup> at 1 mV.s<sup>-1</sup>. The fabrication of high energy density miniaturized power sources based on the optimized T-Nb<sub>2</sub>O<sub>5</sub> films could be achieved for Internet of Things applications requiring high rate capability.Lire moins >
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Projet ANR :
Source :
Fichiers
- https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02263481/document
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