Orientation control of LaNiO3 thin films ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
Titre :
Orientation control of LaNiO3 thin films by RF magnetron sputtering with different oxygen partial pressure
Auteur(s) :
Yang, L.H. [Auteur]
Wang, G.S. [Auteur]
Mao, C.L. [Auteur]
Zhang, Y.Y. [Auteur]
Liang, R.H. [Auteur]
Soyer, Caroline [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Remiens, Denis [Auteur]
Dong, X.L. [Auteur]
Wang, G.S. [Auteur]
Mao, C.L. [Auteur]
Zhang, Y.Y. [Auteur]
Liang, R.H. [Auteur]
Soyer, Caroline [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Remiens, Denis [Auteur]
Dong, X.L. [Auteur]
Titre de la revue :
Journal of Crystal Growth
Pagination :
4241-4246
Éditeur :
Elsevier
Date de publication :
2009
ISSN :
0022-0248
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :
Fichiers
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