Thickness dependent morphology and resistivity ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
Titre :
Thickness dependent morphology and resistivity of ultra-thin Al films growth on Si(111) by molecular beam epitaxy
Auteur(s) :
Aswal, D.K. [Auteur]
Joshi, N. [Auteur]
Debnath, A.K. [Auteur]
Gupta, D.S. [Auteur]
Vuillaume, D. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Yakhmi, J.V. [Auteur]
Joshi, N. [Auteur]
Debnath, A.K. [Auteur]
Gupta, D.S. [Auteur]
Vuillaume, D. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Yakhmi, J.V. [Auteur]
Titre de la revue :
physica status solidi (a)
Pagination :
1254-1258
Éditeur :
Wiley
Date de publication :
2006
ISSN :
0031-8965
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :