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Effect of growth interruptions on TiO2 films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition
Li, D.; Goullet, A.; Carette, Michèle; et al.Materials Chemistry and Physics, Elsevier, 2016, 182, 409-417Compte-rendu et recension critique d'ouvrage -
Structural and optical properties of RF-biased PECVD TiO2 thin films deposited in an O2/TTIP helicon reactor
Li, D.; Goullet, A.; Carette, Michèle; et al.Vacuum, Elsevier, 2016, 131, 231-239Compte-rendu et recension critique d'ouvrage