Fabrication of thin-film silicon membranes ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Titre :
Fabrication of thin-film silicon membranes with phononic crystals for thermal conductivity measurements
Auteur(s) :
Haras, Maciej [Auteur correspondant]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Lacatena, Valeria [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bah, Thierno-Moussa [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Didenko, Stanislav [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Robillard, Jean-François [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Microélectronique Silicium - IEMN [MICROELEC SI - IEMN]
Monfray, Stephane [Auteur]
Skotnicki, Thomas [Auteur]
DUBOIS, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Microélectronique Silicium - IEMN [MICROELEC SI - IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Lacatena, Valeria [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bah, Thierno-Moussa [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Didenko, Stanislav [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Robillard, Jean-François [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Microélectronique Silicium - IEMN [MICROELEC SI - IEMN]
Monfray, Stephane [Auteur]
Skotnicki, Thomas [Auteur]
DUBOIS, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Microélectronique Silicium - IEMN [MICROELEC SI - IEMN]
Titre de la revue :
IEEE Electron Device Letters
Pagination :
1358-1361
Éditeur :
Institute of Electrical and Electronics Engineers
Date de publication :
2016-10
ISSN :
0741-3106
Mot(s)-clé(s) en anglais :
Thermoelectricity
silicon
phonons
thin film devices
semiconductor materials measurements
fabrication
silicon
phonons
thin film devices
semiconductor materials measurements
fabrication
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Résumé en anglais : [en]
Thermoelectricity struggles with the lack of cheap, abundant, and environmentally friendly materials. Silicon could overcome this deficiency by proposing high harvested power density, simplicity, availability, harmlessness, ...
Lire la suite >Thermoelectricity struggles with the lack of cheap, abundant, and environmentally friendly materials. Silicon could overcome this deficiency by proposing high harvested power density, simplicity, availability, harmlessness, CMOS compatibility, and cost reduction. However, despite its high Seebeck coefficient and electrical conductivity, silicon is an inefficient thermoelectric material due to a high thermal conductivity (kappa). Modern nanofabrication techniques enable reduction of kappa in silicon through attenuation of thermal phonons. In this letter, the design and the fabrication of nanostructured material onto kappa measurement platforms are presented. The proposed fabrication process is versatile and ensures compatibility with CMOS technologies. The proposed devices enable precise. measurement owing to a careful management of thermal losses. Characterization resulted in a two-fold (kappa = 59 +/- 10 W/m/K) reduction below bulk value for a 54-nm-thick plain silicon membranes. Further reduction is measured at kappa = 34.5 +/- 7.5 W/m/K for membranes with phononic crystals.Lire moins >
Lire la suite >Thermoelectricity struggles with the lack of cheap, abundant, and environmentally friendly materials. Silicon could overcome this deficiency by proposing high harvested power density, simplicity, availability, harmlessness, CMOS compatibility, and cost reduction. However, despite its high Seebeck coefficient and electrical conductivity, silicon is an inefficient thermoelectric material due to a high thermal conductivity (kappa). Modern nanofabrication techniques enable reduction of kappa in silicon through attenuation of thermal phonons. In this letter, the design and the fabrication of nanostructured material onto kappa measurement platforms are presented. The proposed fabrication process is versatile and ensures compatibility with CMOS technologies. The proposed devices enable precise. measurement owing to a careful management of thermal losses. Characterization resulted in a two-fold (kappa = 59 +/- 10 W/m/K) reduction below bulk value for a 54-nm-thick plain silicon membranes. Further reduction is measured at kappa = 34.5 +/- 7.5 W/m/K for membranes with phononic crystals.Lire moins >
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Projet Européen :
Source :
Fichiers
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- 2016-Haras-EDL-Fabrication_of_Thin-Film_Silicon_Membranes_With_Phononic_Crystals_for_Thermal_Conductivity_Measurements%20%281%29.pdf
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