Static measurements of GaN MESFETs on (111) ...
Document type :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Title :
Static measurements of GaN MESFETs on (111) Si substrates
Author(s) :
Hoel, Virginie [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Guhel, Y. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Boudart, B. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Gaquiere, Christophe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
De Jaeger, Jean-Claude [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Lahreche, H. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Gibart, P. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Guhel, Y. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Boudart, B. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Gaquiere, Christophe [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
De Jaeger, Jean-Claude [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Lahreche, H. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Gibart, P. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications [CRHEA]
Journal title :
Electronics Letters
Pages :
1095 – 1096
Publisher :
IET
Publication date :
2001-08-16
ISSN :
0013-5194
English keyword(s) :
semiconductor device measurement
wide band gap semiconductors
current density
power MESFET
gallium compounds
MOCVD
III-V semiconductors
semiconductor device breakdown
wide band gap semiconductors
current density
power MESFET
gallium compounds
MOCVD
III-V semiconductors
semiconductor device breakdown
HAL domain(s) :
Sciences de l'ingénieur [physics]
English abstract : [en]
For the first time, to the knowledge of the authors, GaN MESFETs on silicon substrate have been realised using low-pressure metal-organic vapour phase epitaxy. The devices demonstrate good pinch-off voltage and good breakdown ...
Show more >For the first time, to the knowledge of the authors, GaN MESFETs on silicon substrate have been realised using low-pressure metal-organic vapour phase epitaxy. The devices demonstrate good pinch-off voltage and good breakdown voltage characteristics. A maximum extrinsic transconductance of 30 mS/mm was achieved on a 100 * 0.5 µm2 device. At a drain-to-source voltage of 30 V, the drain current density reaches 100 mA/mm at Vgs = 0 V.Show less >
Show more >For the first time, to the knowledge of the authors, GaN MESFETs on silicon substrate have been realised using low-pressure metal-organic vapour phase epitaxy. The devices demonstrate good pinch-off voltage and good breakdown voltage characteristics. A maximum extrinsic transconductance of 30 mS/mm was achieved on a 100 * 0.5 µm2 device. At a drain-to-source voltage of 30 V, the drain current density reaches 100 mA/mm at Vgs = 0 V.Show less >
Language :
Anglais
Popular science :
Non
Source :