On the optical and morphological properties ...

Document type :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...)
DOI :
10.1063/1.4805024
Permalink :
http://hdl.handle.net/20.500.12210/45614
Title :
On the optical and morphological properties of microstructured Black Silicon obtained by cryogenic-enhanced plasma reactive ion etching
Author(s) :
Nguyen, K. [Auteur]
Basset, Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Marty, F. [Auteur]
Institut d'électronique fondamentale [IEF]
Leprince-Wang, Y. [Auteur]
Laboratoire de Physique des Matériaux Divisés et des Interfaces [LPMDI]
Bourouina, Tarik [Auteur]
Electronique, Systèmes de communication et Microsystèmes [ESYCOM]
Publisher :
American Institute of Physics
Publication date :
2013-05-21
HAL domain(s) :
Physique [physics]/Matière Condensée [cond-mat]/Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]
Language :
Anglais
Peer reviewed article :
Oui
Audience :
Internationale
Popular science :
Non
Collections :
Source :
Harvested from HAL
Submission date :
2021-07-27T11:56:49Z