Nanoscale carrier multiplication mapping ...
Document type :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Title :
Nanoscale carrier multiplication mapping in a Si diode
Author(s) :
Durand, Corentin [Auteur]
Surfaces, Interfaces et Nano-Objets [CEMES-SINanO]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Capiod, Pierre [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Berthe, Maxime [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Nys, Jean-Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Krzeminski, Christophe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Stiévenard, Didier [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Delerue, Christophe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Grandidier, Bruno [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Surfaces, Interfaces et Nano-Objets [CEMES-SINanO]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Capiod, Pierre [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Berthe, Maxime [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Nys, Jean-Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Krzeminski, Christophe [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Stiévenard, Didier [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Delerue, Christophe [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Grandidier, Bruno [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Journal title :
Nano Letters
Pages :
pp 5636-5640
Publisher :
American Chemical Society
Publication date :
2014-09-24
ISSN :
1530-6984
HAL domain(s) :
Physique [physics]/Physique [physics]/Physique Numérique [physics.comp-ph]
English abstract : [en]
Carrier multiplication (CM), the creation of electron-hole pairs from an excited electron, has been investigated in a silicon p-n junction by multiple probe scanning tunneling microscopy. The technique enables an unambiguous ...
Show more >Carrier multiplication (CM), the creation of electron-hole pairs from an excited electron, has been investigated in a silicon p-n junction by multiple probe scanning tunneling microscopy. The technique enables an unambiguous determination of the quantum yield based on the direct measurement of both electron and hole currents, that are generated by hot tunneling electrons. The combined effect of impact ionization, carrier diffusion and recombination is directly visualized from the spatial mapping of the CM efficiency. Atomically well-ordered areas of the p-n junction surface sustain the highest CM rate, demonstrating the key role of the surface in reaching high yield.Show less >
Show more >Carrier multiplication (CM), the creation of electron-hole pairs from an excited electron, has been investigated in a silicon p-n junction by multiple probe scanning tunneling microscopy. The technique enables an unambiguous determination of the quantum yield based on the direct measurement of both electron and hole currents, that are generated by hot tunneling electrons. The combined effect of impact ionization, carrier diffusion and recombination is directly visualized from the spatial mapping of the CM efficiency. Atomically well-ordered areas of the p-n junction surface sustain the highest CM rate, demonstrating the key role of the surface in reaching high yield.Show less >
Language :
Anglais
Popular science :
Non
ANR Project :
Source :
Files
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