Titre :

First demonstration of high-power GaN-on-silicon transistors at 40 GHz

Auteur(s) :

Medjdoub, Farid [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Zegaoui, Malek [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Grimbert, B. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
DUCATTEAU, Damien [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Rolland, Nathalie [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Rolland, Paul-Alain [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Titre de la revue :

IEEE Electron Device Letters

Pagination :

1168-1170

Éditeur :

Institute of Electrical and Electronics Engineers

Date de publication :

2012

ISSN :

0741-3106

Mot(s)-clé(s) en anglais :

AlN/GaN high-electron-mobility transistors (HEMTs)
grown on silicon substrate (GaN-on-Si)
high output power density
Ka-band

Discipline(s) HAL :

Sciences de l'ingénieur [physics]

Résumé en anglais : [en]

In this letter, high-output-power-density GaN-based high-electron-mobility transistors grown on a 100-mm silicon substrate is demonstrated for the first time at 40 GHz. The use of an optimized double heterostructure based ...
Lire la suite >In this letter, high-output-power-density GaN-based high-electron-mobility transistors grown on a 100-mm silicon substrate is demonstrated for the first time at 40 GHz. The use of an optimized double heterostructure based on ultrathin barrier AlN/GaN allows both high current density and low leakage current, resulting in high-frequency performance (f max close to 200 GHz). Furthermore, the control of the trapping effects on these highly scaled devices enabled to set a first benchmark at 40 GHz with 2.5 W/mm at V DS = 15 V, mainly limited by RF losses and thermal issues. These results show that an AlN/GaN/AlGaN heterostructure grown on silicon substrate is a viable technology for cost-effective high-power millimeter-wave amplifiers fully compatible with standard Si-based devices.Lire moins >

Langue :

Anglais

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL