Effect of alkyl substituents on the ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
Titre :
Effect of alkyl substituents on the adsorption of thienylenevinylene oligomers on the Si (100) surface
Auteur(s) :
Grandidier, Bruno [Auteur correspondant]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Nys, Jean-Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Stiévenard, Didier [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Krzeminski, Christophe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Delerue, Christophe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Frere, Pierre [Auteur]
Chimie, Ingénierie Moléculaire et Matériaux d'Angers [CIMMA]
Blanchard, Phillippe [Auteur]
Chimie, Ingénierie Moléculaire et Matériaux d'Angers [CIMMA]
Roncali, Jean [Auteur]
Chimie, Ingénierie Moléculaire et Matériaux d'Angers [CIMMA]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Nys, Jean-Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Stiévenard, Didier [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Krzeminski, Christophe [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Delerue, Christophe [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Frere, Pierre [Auteur]
Chimie, Ingénierie Moléculaire et Matériaux d'Angers [CIMMA]
Blanchard, Phillippe [Auteur]
Chimie, Ingénierie Moléculaire et Matériaux d'Angers [CIMMA]
Roncali, Jean [Auteur]
Chimie, Ingénierie Moléculaire et Matériaux d'Angers [CIMMA]
Titre de la revue :
Surface Science : A Journal Devoted to the Physics and Chemistry of Interfaces
Pagination :
1-7
Éditeur :
Elsevier
Date de publication :
2001-02
ISSN :
0039-6028
Discipline(s) HAL :
Physique [physics]/Physique [physics]/Physique Numérique [physics.comp-ph]
Chimie/Matériaux
Physique [physics]/Matière Condensée [cond-mat]/Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]
Chimie/Matériaux
Physique [physics]/Matière Condensée [cond-mat]/Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]
Résumé en anglais : [en]
The adsorption of thienylenevinylene oligomers on the Si(100) surface has been investigated using scanning tunneling microscopy. The mode of substitution of the thiophene ring exerts a strong influence on the adsorption ...
Lire la suite >The adsorption of thienylenevinylene oligomers on the Si(100) surface has been investigated using scanning tunneling microscopy. The mode of substitution of the thiophene ring exerts a strong influence on the adsorption configurations and the images of the oligomer based on 3,4-dihexyl thiophene are highly voltage dependent. We discuss the influence of the alkyl chains on the adsorption process and on the appearance of the molecules in the STM images.Lire moins >
Lire la suite >The adsorption of thienylenevinylene oligomers on the Si(100) surface has been investigated using scanning tunneling microscopy. The mode of substitution of the thiophene ring exerts a strong influence on the adsorption configurations and the images of the oligomer based on 3,4-dihexyl thiophene are highly voltage dependent. We discuss the influence of the alkyl chains on the adsorption process and on the appearance of the molecules in the STM images.Lire moins >
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :
Fichiers
- https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00688535/document
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- http://arxiv.org/pdf/1204.3983
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- alkyl_substituents_adsorption_thienylenevinylene_Si_100_.pdf
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- 1204.3983
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