Fabrication et caractérisation de MOSFET ...
Type de document :
Communication dans un congrès avec actes
Titre :
Fabrication et caractérisation de MOSFET In0.53Ga0.47As de type N en technologie auto-aligné et de longueur de grille de 300nm
Auteur(s) :
Mo, J. [Auteur]
Olivier, A. [Auteur]
Wichmann, Nicolas [Auteur]
Roelens, Yannick [Auteur]
Desplanque, Ludovic [Auteur]
Wallart, Xavier [Auteur]
Danneville, François [Auteur]
Dambrine, Gilles [Auteur]
Martin, F. [Auteur]
Desplats, O. [Auteur]
Bollaert, Sylvain [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Olivier, A. [Auteur]
Wichmann, Nicolas [Auteur]
Roelens, Yannick [Auteur]
Desplanque, Ludovic [Auteur]
Wallart, Xavier [Auteur]
Danneville, François [Auteur]
Dambrine, Gilles [Auteur]
Martin, F. [Auteur]
Desplats, O. [Auteur]
Bollaert, Sylvain [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Titre de la manifestation scientifique :
17èmes Journées Nationales Micro-ondes, JNM 2011
Pays :
France
Date de début de la manifestation scientifique :
2011
Titre de l’ouvrage :
Actes des 17èmes Journées Nationales Micro-ondes, JNM 2011
Éditeur :
_
Date de publication :
2011
Langue :
Français
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Vulgarisation :
Non
Source :