Quantitative (artifact-free) surface ...

Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
10.1063/1.3516046
Titre :
Quantitative (artifact-free) surface potential measurements using Kelvin force microscopy
Auteur(s) :
Melin, Thierry [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Barbet, Sophie [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Diesinger, Heinrich [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Théron, Didier [Auteur] refId
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Deresmes, D. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Titre de la revue :
Review of Scientific Instruments
Pagination :
036101-1-3
Éditeur :
American Institute of Physics
Date de publication :
2011
ISSN :
0034-6748
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Résumé en anglais : [en]
The measurement of local surface potentials by Kelvin force microscopy (KFM) can be sensitive to external perturbations which lead to artifacts such as strong dependences of experimental results (typically in a ∼1 V range) ...
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Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Collections :
Source :
Harvested from HAL
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