Kinetics of RPECVD organosilicon polymer ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Titre :
Kinetics of RPECVD organosilicon polymer post-treatment in a N2/O2 microwave plasma remote afterglow
Auteur(s) :
Abou Rich, S. [Auteur]
Mille, V. [Auteur]
Vivien, Celine [Auteur]
Godey, Sylvie [Auteur]
Supiot, Philippe [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Mille, V. [Auteur]
Vivien, Celine [Auteur]

Godey, Sylvie [Auteur]

Supiot, Philippe [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Titre de la revue :
Plasma Processes and Polymers
Pagination :
775-784
Éditeur :
Wiley-VCH Verlag
Date de publication :
2010
ISSN :
1612-8850
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :
Fichiers
- https://api.istex.fr/document/4651F4721253B155464144C2F5AB13DC86EC7470/fulltext/pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- https://api.istex.fr/document/4651F4721253B155464144C2F5AB13DC86EC7470/fulltext/pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- https://api.istex.fr/document/4651F4721253B155464144C2F5AB13DC86EC7470/fulltext/pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- https://api.istex.fr/document/4651F4721253B155464144C2F5AB13DC86EC7470/fulltext/pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- https://api.istex.fr/document/4651F4721253B155464144C2F5AB13DC86EC7470/fulltext/pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- https://api.istex.fr/document/4651F4721253B155464144C2F5AB13DC86EC7470/fulltext/pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- Accès libre
- Accéder au document
- fulltext.pdf
- Accès libre
- Accéder au document