Title :

TEM characterization of polysilicon and silicide fin fabrication processes of FinFETs

Author(s) :

Ratajczak, J. [Auteur]
Laszcz, A. [Auteur]
Czerwinski, A. [Auteur]
Katcki, J. [Auteur]
Tang, Xing [Auteur]
Reckinger, N. [Auteur]
Yarekha, Dmitri [Auteur]
Larrieu, G. [Auteur]
Dubois, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Journal title :

Acta Physica Polonica A

Pages :

89-91

Publisher :

Polish Academy of Sciences. Institute of Physics

Publication date :

2009

ISSN :

0587-4246

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Non spécifiée

Popular science :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

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