Titre :

TEM characterization of polysilicon and silicide fin fabrication processes of FinFETs

Auteur(s) :

Ratajczak, J. [Auteur]
Laszcz, Adam [Auteur]
Czerwinski, A. [Auteur]
Katcki, J. [Auteur]
Tang, Xing [Auteur]
Université Catholique de Louvain = Catholic University of Louvain [UCL]
Reckinger, N. [Auteur]
Université Catholique de Louvain = Catholic University of Louvain [UCL]
Yarekha, Dmytro [Auteur]
Microélectronique Silicium - IEMN [MICROELEC SI - IEMN]
Larrieu, Guilhem [Auteur]
Laboratoire d'analyse et d'architecture des systèmes [LAAS]
Microélectronique Silicium - IEMN [MICROELEC SI - IEMN]
Dubois, Emmanuel [Auteur]
Microélectronique Silicium - IEMN [MICROELEC SI - IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Titre de la revue :

Acta Physica Polonica A

Pagination :

89-91

Éditeur :

Polish Academy of Sciences. Institute of Physics

Date de publication :

2009

ISSN :

0587-4246

Discipline(s) HAL :

Physique [physics]

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Non spécifiée

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL