Title :

A low dielectric film obtained by polymerisation of tetramethyldisiloxane using a remote plasma enhanced chemical vapor deposition (RPECVD) process

Author(s) :

Vestiel, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Vindevoghel, J. [Auteur]
Glay, David [Auteur]
Jama, C.E. [Auteur]
Dessaux, O. [Auteur]
Goudmand, P. [Auteur]
Miane, J.L. [Auteur]

Start date of the conference :

2000

Book title :

Proceedings of the 30th European Microwave Conference, EuMC 2000

Publisher :

European Microwave Association, London, UK

Publication date :

2000

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Non spécifiée

Popular science :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL