Physics-based process simulation of ...
Type de document :
Autre communication scientifique (congrès sans actes - poster - séminaire...): Communication dans un congrès avec actes
Titre :
Physics-based process simulation of ultrashallow junctions
Auteur(s) :
Cowern, N.E.B. [Auteur]
Colombeau, B. [Auteur]
Duffy, R. [Auteur]
Venezia, V. [Auteur]
Dachs, C. [Auteur]
Lindsay, R. [Auteur]
Cristiano, Fuccio [Auteur]
Lampin, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Claverie, Alain [Auteur]
Colombeau, B. [Auteur]
Duffy, R. [Auteur]
Venezia, V. [Auteur]
Dachs, C. [Auteur]
Lindsay, R. [Auteur]
Cristiano, Fuccio [Auteur]
Lampin, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Claverie, Alain [Auteur]
Titre de la manifestation scientifique :
Ultra-Shallow Junctions Worshop
Ville :
Santa Cruz, CA
Pays :
Etats-Unis d'Amérique
Date de début de la manifestation scientifique :
2003
Date de publication :
2003
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Vulgarisation :
Non
Source :