Interfacial layer in the high-k dielectrics ...
Type de document :
Communication dans un congrès avec actes
Titre :
Interfacial layer in the high-k dielectrics : characterization and suppression
Auteur(s) :
Larrieu, G. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Tao, M. [Auteur]
Moumen, N. [Auteur]
Moldonado, E. [Auteur]
Kirk, W.P. [Auteur]
Song, G. [Auteur]
Bai, W. [Auteur]
Kwong, D.L. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Tao, M. [Auteur]
Moumen, N. [Auteur]
Moldonado, E. [Auteur]
Kirk, W.P. [Auteur]
Song, G. [Auteur]
Bai, W. [Auteur]
Kwong, D.L. [Auteur]
Date de début de la manifestation scientifique :
2005
Titre de l’ouvrage :
Proceedings of the 208th Meeting of the Electrochemical Society
Éditeur :
The Electrochemical Society Inc, Pennington, NJ, USA
Date de publication :
2005
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Non spécifiée
Vulgarisation :
Non
Source :