Title :

Polydimethylsiloxane micro-channels application for the study of dynamic wetting of nano-etched silicon surfaces based on acoustic characterization method

Author(s) :

Salhab, A. []
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Carlier, Julien [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Campistron, Pierre [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Neyens, M. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Toubal, M. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Nongaillard, Bertrand [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Matériaux et Acoustiques pour MIcro et NAno systèmes intégrés - IEMN [MAMINA - IEMN]
Thomy, V. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bio-Micro-Electro-Mechanical Systems - IEMN [BIOMEMS - IEMN]

Scientific editor(s) :

Mertens P.W.Wostyn K.Meuris M.Heyns M.

Conference title :

15th International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces, UCPSS 2021, Session 6 - Wet processing in narrow spaces and pattern collapse

City :

Virtual

Start date of the conference :

2021-04-12

Publisher :

Trans Tech Publications Ltd

Publication date :

2021

English keyword(s) :

Acoustics
Deep trench isolation
Micro and Nano-technology
Microelectronics
Microfluidics
Nondestructive testing
Piezoelectric transducers
Surface cleaning
Wetting

HAL domain(s) :

Sciences de l'ingénieur [physics]

English abstract : [en]

Efficient cleaning of contaminations in the semiconductor industry is a determining factor in ensuring the good quality of the electronics products. We present here the dynamic wetting characterization of a fluid on top ...
Show more >Efficient cleaning of contaminations in the semiconductor industry is a determining factor in ensuring the good quality of the electronics products. We present here the dynamic wetting characterization of a fluid on top of Deep Trench Isolation (DTI) structures using ultra-high frequency acoustic method. The dynamics of the fluid will be established using a PolyDiMethylSiloxane (PDMS) micro-channel placed on top of the structures, in order to obtain conditions as close as possible to those used in the industrial process. Wetting state of the DTI structures is determined based on the measured acoustic reflection coefficient.Show less >

Language :

Anglais

Peer reviewed article :

Oui

Audience :

Internationale

Popular science :

Non

Comment :

ORAL

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL

Submission date :

2021-11-13T05:17:49Z