Titre :

Atomic Layer Deposition of a Nanometer-Thick Li 3 PO 4 Protective Layer on LiNi 0.5 Mn 1.5 O 4 Films: Dream or Reality for Long-Term Cycling?

Auteur(s) :

Hallot, Maxime [Auteur]
Circuits Systèmes Applications des Micro-ondes - IEMN [CSAM - IEMN ]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Caja-Munoz, Borja [Auteur]
Synchrotron SOLEIL [SSOLEIL]
Leviel, Clement [Auteur]
Circuits Systèmes Applications des Micro-ondes - IEMN [CSAM - IEMN ]
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Lebedev, Oleg [Auteur]
Laboratoire de cristallographie et sciences des matériaux [CRISMAT]
Retoux, Richard [Auteur]
Laboratoire de cristallographie et sciences des matériaux [CRISMAT]
Avila, José [Auteur]
Université Paris-Saclay
Synchrotron SOLEIL [SSOLEIL]
Roussel, Pascal [Auteur]
Asensio, Maria Carmen [Auteur]
Universitat de València = University of Valencia [UV]
Lethien, Christophe [Auteur]
Circuits Systèmes Applications des Micro-ondes - IEMN [CSAM - IEMN ]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]

Titre de la revue :

ACS Applied Materials & Interfaces

Pagination :

15761-15773

Éditeur :

Washington, D.C. : American Chemical Society

Date de publication :

2021-04-07

ISSN :

1944-8244

Discipline(s) HAL :

Chimie
Physique [physics]

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Internationale

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL

Date de dépôt :

2022-10-18T07:53:24Z