Two-dimensional process simulation of ...
Type de document :
Communication dans un congrès avec actes
Titre :
Two-dimensional process simulation of bipolar devices using a multi-layer simulator: IMPACT-4’
Auteur(s) :
Baccus, B. [Auteur]
Collard, Dominique [Auteur]
Dubois, Emmanuel [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Microélectronique Silicium - IEMN [MICROELEC SI - IEMN]
Morel, Denis [Auteur]
Collard, Dominique [Auteur]
Dubois, Emmanuel [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Microélectronique Silicium - IEMN [MICROELEC SI - IEMN]
Morel, Denis [Auteur]
Titre de la manifestation scientifique :
Proc. of the Bipolar Circuits and Technology Meeting, BCTM
Ville :
Minneapolis
Pays :
Etats-Unis d'Amérique
Date de début de la manifestation scientifique :
1988-09
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]
Langue :
Anglais
Comité de lecture :
Oui
Audience :
Internationale
Vulgarisation :
Non
Source :