Titre :

Refractive Index Modification in Thin Film Barium Titanate-on-Insulator and Dry Etch Free Fabrication of Waveguide Devices

Auteur(s) :

Cao, Yu [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Lin, Hong-Lin [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Liang, Haidong [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Bettiol, Andrew [Auteur]
National University of Singapore [NUS]
Dogheche, El Hadj [Auteur]
Université Polytechnique Hauts-de-France [UPHF]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - Département Opto-Acousto-Électronique - UMR 8520 [IEMN-DOAE]
Danner, Aaron [Auteur]
National University of Singapore [NUS]

Titre de la manifestation scientifique :

2023 IEEE Photonics Conference (IPC)

Ville :

Orlando

Pays :

Etats-Unis d'Amérique

Date de début de la manifestation scientifique :

2023-11-12

Éditeur :

IEEE

Discipline(s) HAL :

Physique [physics]
Sciences de l'ingénieur [physics]

Résumé en anglais : [en]

We present refractive index modification methods in thin-film barium titanate-on-insulator with a resultant index change up to 0.17, and propose dry etch free device fabrication methods for optical waveguide devices.We present refractive index modification methods in thin-film barium titanate-on-insulator with a resultant index change up to 0.17, and propose dry etch free device fabrication methods for optical waveguide devices.Lire moins >

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Internationale

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL