Atomic layer deposition of epitaxial ...
Type de document :
Article dans une revue scientifique
DOI :
URL permanente :
Titre :
Atomic layer deposition of epitaxial CeO2thin layers for faster surface hydrogen oxidation and faster bulk ceria reduction/reoxidation
Auteur(s) :
Marizy, Adrien [Auteur]
Institut de Recherche de Chimie Paris [IRCP]
Roussel, Pascal [Auteur]
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Ringuedé, Armelle [Auteur]
Institut de Recherche de Chimie Paris [IRCP]
Cassir, Michel [Auteur]
Institut de Recherche de Chimie Paris [IRCP]
Institut de Recherche de Chimie Paris [IRCP]
Roussel, Pascal [Auteur]
Unité de Catalyse et Chimie du Solide - UMR 8181 [UCCS]
Ringuedé, Armelle [Auteur]
Institut de Recherche de Chimie Paris [IRCP]
Cassir, Michel [Auteur]
Institut de Recherche de Chimie Paris [IRCP]
Titre de la revue :
J. Mater. Chem. A
Numéro :
3
Pagination :
10498-10503
Date de publication :
2015
Discipline(s) HAL :
Chimie/Chimie inorganique
Langue :
Anglais
Audience :
Internationale
Vulgarisation :
Non
Établissement(s) :
ENSCL
CNRS
Centrale Lille
Univ. Artois
Université de Lille
CNRS
Centrale Lille
Univ. Artois
Université de Lille
Collections :
Équipe(s) de recherche :
Matériaux inorganiques, structures, systèmes et propriétés (MISSP)
Oxydes Innovants
Oxydes Innovants
Date de dépôt :
2019-09-24T14:35:04Z
2019-10-22T13:58:55Z
2019-10-22T13:58:55Z