Title :

Photolysis of CF3CH2CHO in the Presence of O2 at 248 and 266 nm: Quantum Yields, Products, and Mechanism

Author(s) :

Antinolo, M. [Auteur]
Bettinelli, C. [Auteur]
Jain, C. [Auteur]
Drean, Pascal [Auteur]
Lemoine, B. [Auteur]
Albaladejo, J. [Auteur]
Jiménez, E. [Auteur]
Fittschen, Christa [Auteur]
Antiñolo, M. [Auteur]

Journal title :

The Journal of Physical Chemistry A

Volume number :

117

Pages :

10661-10670

Publication date :

2013

HAL domain(s) :

Chimie/Chimie théorique et/ou physique
Physique [physics]/Physique [physics]/Chimie-Physique [physics.chem-ph]

Language :

Anglais

Audience :

Internationale

Popular science :

Non

Administrative institution(s) :

Université de Lille
CNRS

Collections :

• Physicochimie des Processus de Combustion et de l'Atmosphère (PC2A) - UMR 8522

Research team(s) :

PhysicoChimie de l'Atmosphère (PCA)

Submission date :

2018-11-27T14:23:31Z
2019-07-03T08:02:41Z
2019-07-03T13:40:16Z