Thermal Impedance Extraction From Electrical ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
DOI :
Titre :
Thermal Impedance Extraction From Electrical Measurements for Double-Ended Gate Transistors
Auteur(s) :
Cutivet, Adrien [Auteur]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bouchilaoun, Meriem [Auteur]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Chakroun, Ahmed [Auteur]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Rodriguez, Christophe [Auteur]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Institut Mondor de Recherche Biomédicale [IMRB]
Soltani, Ali [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Jaouad, Abdelatif [Auteur]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Boone, François [Auteur]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Maher, Hassan [Auteur]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
OMMIC
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Bouchilaoun, Meriem [Auteur]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Chakroun, Ahmed [Auteur]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Rodriguez, Christophe [Auteur]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Institut Mondor de Recherche Biomédicale [IMRB]
Soltani, Ali [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Jaouad, Abdelatif [Auteur]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Boone, François [Auteur]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
Maher, Hassan [Auteur]
Institut Interdisciplinaire d'Innovation Technologique [Sherbrooke] [3IT]
Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes [LN2 ]
OMMIC
Titre de la revue :
Physica Status Solidi (c)
Pagination :
1700225
Éditeur :
Wiley
Date de publication :
2017-11-14
ISSN :
1610-1634
Discipline(s) HAL :
Sciences de l'ingénieur [physics]/Electronique
Résumé en anglais : [en]
Transistor's thermal impedance is a parameter of prime importance to predict the device peak temperature in applications of power and RF electronics featuring time-dependent dissipated power. In the context of the upcoming ...
Lire la suite >Transistor's thermal impedance is a parameter of prime importance to predict the device peak temperature in applications of power and RF electronics featuring time-dependent dissipated power. In the context of the upcoming GaN HEMT technology, an innovative methodology is hereby detailed for the extraction of a transistor thermal dynamic behavior. This technique uses the dependence of the Gate resistance over temperature and thus only requires common electrical measurement of the device. An original technique is introduced to make this method robust to an inherent electrical coupling effect.Lire moins >
Lire la suite >Transistor's thermal impedance is a parameter of prime importance to predict the device peak temperature in applications of power and RF electronics featuring time-dependent dissipated power. In the context of the upcoming GaN HEMT technology, an innovative methodology is hereby detailed for the extraction of a transistor thermal dynamic behavior. This technique uses the dependence of the Gate resistance over temperature and thus only requires common electrical measurement of the device. An original technique is introduced to make this method robust to an inherent electrical coupling effect.Lire moins >
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :