Optimization of PST thin films grown by ...
Type de document :
Compte-rendu et recension critique d'ouvrage
Titre :
Optimization of PST thin films grown by sputtering and complete dielectric performance evaluation : an alternative material for tunable devices
Auteur(s) :
Lei, X.Y. [Auteur]
Remiens, Denis [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Ponchel, Freddy [Auteur]
Soyer, Caroline [Auteur]
Wang, G.S. [Auteur]
Dong, X.L. [Auteur]
Remiens, Denis [Auteur]

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Ponchel, Freddy [Auteur]

Soyer, Caroline [Auteur]

Wang, G.S. [Auteur]
Dong, X.L. [Auteur]
Titre de la revue :
Journal of the American Ceramic Society
Pagination :
4323-4328
Éditeur :
Wiley
Date de publication :
2011
ISSN :
0002-7820
Langue :
Anglais
Vulgarisation :
Non
Source :
Fichiers
- https://api.istex.fr/ark:/67375/WNG-F8Q710G4-J/fulltext.pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- https://api.istex.fr/ark:/67375/WNG-F8Q710G4-J/fulltext.pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- https://api.istex.fr/ark:/67375/WNG-F8Q710G4-J/fulltext.pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- https://api.istex.fr/ark:/67375/WNG-F8Q710G4-J/fulltext.pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- https://api.istex.fr/ark:/67375/WNG-F8Q710G4-J/fulltext.pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- https://api.istex.fr/ark:/67375/WNG-F8Q710G4-J/fulltext.pdf?sid=hal
- Accès libre
- Accéder au document
- fulltext.pdf
- Accès libre
- Accéder au document