Titre :

A low dielectric film obtained by polymerisation of tetramethyldisiloxane using a remote plasma enhanced chemical vapor deposition (RPECVD) process

Auteur(s) :

Vestiel, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Vindevoghel, J. [Auteur]
Glay, David [Auteur]
Jama, C.E. [Auteur]
Dessaux, O. [Auteur]
Goudmand, P. [Auteur]
Miane, J.L. [Auteur]

Date de début de la manifestation scientifique :

2000

Titre de l’ouvrage :

Proceedings of the 30th European Microwave Conference, EuMC 2000

Éditeur :

European Microwave Association, London, UK

Date de publication :

2000

Langue :

Anglais

Comité de lecture :

Oui

Audience :

Non spécifiée

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

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