Titre :

Diffusion and activation of dopants in silicon and advanced silicon-based materials

Auteur(s) :

Pichler, P. [Auteur]
Ortiz, C.J. [Auteur]
Colombeau, B. [Auteur]
Cowern, N.E.B. [Auteur]
Lampin, E. [Auteur]
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 [IEMN]
Uppal, S. [Auteur]
Karunaratne, M.S.A. [Auteur]
Bonar, J.M. [Auteur]
Willoughby, A. [Auteur]
Claverie, Alain [Auteur]
Cristiano, Fuccio [Auteur]
Lerch, W. [Auteur]
Paul, S. [Auteur]

Titre de la revue :

Physica Scripta

Pagination :

89-96

Éditeur :

IOP Publishing

Date de publication :

2006

ISSN :

0031-8949

Langue :

Anglais

Vulgarisation :

Non

Collections :

• Institut d'Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie (IEMN) - UMR 8520

Source :

Harvested from HAL